【電子超純水工藝簡介】
電子、半導(dǎo)體、液晶顯示、光伏工業(yè)生產(chǎn)在制作過程中，往往需要使用極其純凈的超純水。如果純水水質(zhì)達(dá)不到生產(chǎn)工藝用水的要求或者水質(zhì)不穩(wěn)定的話，會(huì)影響到后續(xù)工藝的處理效果和使用壽命。在光伏行業(yè)電子管生產(chǎn)中，如其中混入雜質(zhì)，就會(huì)影響電子的發(fā)射，進(jìn)而影響電子管的放大性能及壽命，在顯像管和陰極射線管生產(chǎn)中，其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì)，如其配制純水中含銅在8ppb以上，就會(huì)引起發(fā)光變色；含鐵在50ppb以上就會(huì)使發(fā)光變色、變暗、閃動(dòng)并會(huì)造成氣泡、條跡、漏光點(diǎn)等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12個(gè)工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個(gè)工序需使用純水，每生產(chǎn)一個(gè)晶體管需高純水80kg。液晶顯示器的屏面需有純水清洗和用純水配液，如純水中有金屬離子、微生物、微粒等雜質(zhì)，就會(huì)使液晶顯示電路發(fā)生故障，影響液晶屏質(zhì)量，導(dǎo)致報(bào)廢、次品。在晶體管、集成電路生產(chǎn)中，純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水中的堿金屬（K、Na等）會(huì)使絕緣膜耐壓不良，重金屬（Au、Ag、Cu等）會(huì)使PN結(jié)耐壓降低，III族元素（B、Al、Ga等）會(huì)使N型半導(dǎo)體特性惡化，V族素（P、As、Sb等）會(huì)使P型半導(dǎo)體特性惡化，水中細(xì)菌高溫碳化后的磷（約占灰分的20%~50%）會(huì)使P型硅片上的局部區(qū)域變化為N型硅而導(dǎo)致器件性能變壞。水中的顆粒（包括細(xì)菌）如吸附在硅片表面，就會(huì)引起電路短路或特性變差。因此水的質(zhì)量相當(dāng)重要。采用反滲透加EDI的脫鹽工藝，可以達(dá)到超純水標(biāo)準(zhǔn)。
【出水水質(zhì)】
符合中國電子行業(yè)超純水國家標(biāo)準(zhǔn)(GB/T11446.1-1997 )規(guī)定。
【應(yīng)用】
微電子行業(yè)包括了電解電容器生產(chǎn)、電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、液晶顯示器的生產(chǎn)、晶體管生產(chǎn)、集成電路生產(chǎn)、單晶硅、多晶硅生產(chǎn)、電子新材料生產(chǎn)等生產(chǎn)工藝，都需要工業(yè)超純水。
【典型工藝】
原水箱→原水泵→多介質(zhì)過濾器→活性碳過濾器→保安過濾器→一級(jí)反滲透→二級(jí)反滲透→純水箱→純水泵→TOC分解器→脫氣膜→保安過濾器→EDI裝置→純水箱→純水泵→拋光混床→膜過濾器→生產(chǎn)線用水點(diǎn)
先鋒采用膜法工藝（反滲透→EDI→拋光混床），使超純水制備從傳統(tǒng)的陽離子交換器、脫碳、陰離子交換器、復(fù)合離子交換器等發(fā)生了一次革命，從此進(jìn)入了一個(gè)無需再生化學(xué)品的時(shí)代。高科技膜法制備出來的工業(yè)純水，其純度可達(dá)到18MΩ·CM，且系統(tǒng)穩(wěn)定，使用壽命長，且生產(chǎn)過程所產(chǎn)生的廢水又可回用再生。
 
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